磁控溅射功率对玻璃基DLC薄膜的结构和硬度的影响

作者：刘翔; 赵青南^*; 张泽华; 李渊; 曾臻; 董玉红; 赵杰

来源：硅酸盐通报, 2018, 37(10): 3049-3053.

DOI：10.16552/j.cnki.issn1001-1625.2018.10.003

• DLC薄膜
• 硬度
• 磁控溅射功率
• 过渡层SiC

用直流-射频磁控溅射镀膜工艺,在不同的溅射功率条件下,制备了玻璃/Si C/DLC(diamond-like carbon)薄膜。通过X射线衍射仪(XRD)、共焦显微拉曼光谱仪(Raman)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、纳米显微硬度仪,研究了DLC薄膜的组织结构、物相组成、表面形貌、维氏硬度。结果表明,随着功率的增大,ID/IG值先增大后减小,薄膜硬度呈现先增大后减小的趋势;当溅射功率为200 W时,ID/IG值为0. 56,镀膜玻璃的硬度值最大(830HV),相比未镀膜的玻璃基片,硬度值增加了23. 88%。

• 单位
  武汉理工大学; 江苏秀强玻璃工艺股份有限公司; 硅酸盐建筑材料国家重点实验室