磁场作用下硅晶体生长的应用研究现状

作者：饶森林; 张发云^*; 罗玉峰; 熊含梦; 李云明; 胡云; 章娟

来源：铸造技术, 2019, 40(02): 229-234.

DOI：10.16410/j.issn1000-8365.2019.02.024

• 磁场
• 晶体硅
• 固液界面
• 熔体流动

针对静态磁场和非静态磁场在硅晶体生长中的应用研究现状,综述了磁场对硅晶体生长过程中熔体流动、固液界面形态、杂质含量及分布的影响,重点对比分析了静态磁场与非静态磁场的特点。总结了该应用当前存在的问题,并对未来的技术发展进行了展望。

• 单位
  华东交通大学; 南昌大学机电工程学院; 江西省高等学校硅材料重点实验室; 新余学院