Ni/SiO2在甲烷部分氧化反应中的稳定性:W修饰的影响

作者：连孟水; 王雅莉; 赵明全; 李倩倩; 翁维正; 夏文生^*; 万惠霖^*

来源：Acta Physico - Chimica Sinica, 2019, 35(06): 607-615.

• 甲烷部分氧化
• 稳定性
• Ni基催化剂
• 钨修饰

甲烷部分氧化制合成气反应(POM)是天然气、页岩气资源利用的重要途径之一,常用的Ni/SiO2催化剂在反应中易发生表面积炭而失活。为了解决这一问题,我们采用尿素沉淀法制备W修饰的Ni基催化剂,并考察其在POM反应中的稳定性和W的作用。结果表明,催化剂中适量W的存在可显著改善其POM反应稳定性。其原因为Ni-W作用修饰了Ni的化学态或其亲氧能力,从而改善了其表面抗积炭能力。此外,反应中催化剂表面形成的α-WC具有一定的抑制表面积炭形成的能力,且该α-WC具有良好的稳定性。

• 单位
  固体表面物理化学国家重点实验室; 厦门大学; 化学化工学院