为探究单摆参数对抛光工件平面度的影响，提出一种基于速度和压强分布耦合的抛光微元材料去除模型，以预测工件表面平面度。从单颗磨粒的材料去除出发，建立工件表面各微元单位时间内材料去除厚度模型，并将工件相对抛光垫速度和工件表面压强分布耦合代入模型；根据工件初始面形提取微元高度值，结合各微元材料去除的厚度，计算抛光后的工件表面平面度；试验验证平面度预测方法。结果表明：仿真与实际抛光后的面形的变化趋势相同，平面度PV20值绝对偏差小于12.0%，平面度预测可靠。
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