摘要
本发明属于紫外-可见探测技术领域,公开了一种SiC基二硫化钨紫外-可见光电探测器及其制备方法和应用。该探测器的结构为背电极/n~+SiC(360μm)/n~-SiC(11μm)/对称电极/WS-2纳米片;所述探测器先在SiO-2/Si衬底上通过机械剥离制备微米尺寸的不规则WS-2纳米片;再通过PVA干法转移工艺,将WS-2转移至已通过光刻蒸镀工艺沉积对称电极的SiC衬底上,最后将附有WS-2/PVA膜的SiC衬底放入50~60℃去离子水或二甲基亚砜中加热使PVA膜溶解;保护气氛中在100~250℃退火获得。本发明提高了WS-2探测器的性能,促进了SiC基二维材料功能器件的应用发展,有利于商业化推广。
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