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摘要
通过简单的溶胶-凝胶法制备得到了小粒径的无定形TiO2粒子,并将其沉积在多孔SiO2膜层表面,多孔SiO2膜层大的表面积有助于无定形TiO2的良好分散,高度分散的无定形TiO2粒子对膜层的光学性能影响较小,通过匹配合适的低折射率的SiO2膜层,制备得到的SiO2&无定形TiO2(SiO2&amorphous-TiO2)膜层表现出和理想单层增透膜相似的光学性能。同时SiO2&amorphous-TiO2的光催化性能显著提高,明显高于单层无定形TiO2。而且SiO2&无定形TiO2膜层甚至表现出比相应的负载锐钛矿型TiO2的膜层,即SiO2&锐钛矿TiO2,更高的光催化活性,这一反常现象的原因是,无定型TiO2膜层表面丰富的羟基有助于减少空穴-电子对的复合,其相对疏松的结构能够加快光生电子-空穴的转移速率,而这些因素的影响超过了晶型结构对光催化活性的影响。同时SiO2膜层的孔隙结构在浸渍-提拉镀制过程中,自发形成并不需要后续热处理过程,因此,整个SiO2&无定形TiO2膜层的制备均可在室温下完成,能够实现其在不耐热基片上的应用。
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