气相中2-甲氧基乙酸参与9-芴甲氧羰基脱除反应的质谱研究

作者：高校飞^*; 姚泽华; 董茂友; 陈祥钊^*

来源：质谱学报, 2024, 45(02): 246-255.

• 9-芴甲氧羰基(Fmoc)
• 脱保护
• 分子离子反应
• 质谱

本研究主要探讨气相条件下，乙酸(HAc)、3-甲氧基丙酸(MPA)和2-甲氧基乙酸(MAA)在氨基酸保护基9-芴甲氧羰基(Fmoc)脱除过程中的作用。采用自制的纳喷装置将反应溶液依次雾化进入质谱仪，在线监测3种羧酸分别与不同氨基酸底物反应的关键离子，探讨羧酸与底物结构对复合物形成及质谱解离模式的影响。结果表明，对于同一氨基酸结合不同羧酸的复合物，只有相对含量较高的MAA复合物发生了解离。这可能是因为MAA 2号位的甲氧基促进了MAA与Fmoc基团9号碳上H的复合，降低了该H解离过渡态能垒，从而有利于MAA与Fmoc保护的氨基酸(Xf,Xf=Gf,Af,Vf,Lf,Mf,Ff,Pf)形成的复合物[Xf+MAA-H]-阴离子中Fmoc的解离。对于MAA的不同氨基酸复合物而言，N上没有H的Pf复合物阴离子[Pf+MAA-H]-解离的碎片是以Fmoc脱除产物为主，其他氨基酸的MAA复合物则以丢失中性MAA碎片为主。可见，羧酸结构和氨基酸底物结构对复合物分子的形成和复合物分子中Fmoc的解离有着重要影响，该研究结果有助于理解气相中Fmoc解离的分子离子反应过程。

• 单位
  江西省质谱科学与仪器重点实验室; 材料学院; 东华理工大学; 赣南医学院