低成本氧化铟锡基底的制备及其SERS活性

作者：朱化强; 龙开琳^*; 刘风坤

来源：人工晶体学报, 2022, 51(02): 263-270.

DOI：10.16553/j.cnki.issn1000-985x.20211223.002

• 氧化铟锡
• 脉冲激光沉积
• 真空退火
• 脉冲数
• 表面增强拉曼散射
• 表面等离激元
• 低成本

本文采用脉冲激光沉积和真空退火的方法在铝箔上制备氧化铟锡(indium tin oxide, ITO)表面增强拉曼散射(surface-enhanced Raman scattering, SERS)活性基底，并研究了ITO基底的SERS特性。沉积了700、1 000、1 300、1 600、2 000五组脉冲数的基底，测量结果显示薄膜厚度与脉冲数接近线性关系，当ITO薄膜厚度为60.80 nm(脉冲数为1 300)时，拉曼信号的增强程度达到最大值，其拉曼强度是Au基底的2～3倍。研究表明，真空退火能够显著提升ITO基底的拉曼增强效果，不同厚度的ITO薄膜基底均具有明显的SERS增强效果，可以通过控制薄膜厚度对ITO基底进行SERS调控。这些研究结果可为后续ITO材料SERS研究及应用提供参考依据。

• 单位
  贵州师范大学