分段电压模式制备镁合金微弧氧化膜工艺研究

作者：赵昊宇; 陈伟东^*; 刘硕; 李**

来源：特种铸造及有色合金, 2023, 43(04): 514-518.

DOI：10.15980/j.tzzz.2023.04.016

• 微弧氧化
• 氧化膜
• 分段电压
• 膜层特性

为了研究分段式加载电压对镁合金微弧氧化膜性能的影响，采用Na2SiO3电解液体系对AZ91D镁合金进行微弧氧化。利用扫面电镜(SEM)对氧化膜的表面和截面形貌进行观察，用涡流测厚仪、激光共聚焦显微镜及Image J测试了膜层的厚度、粗糙度及孔隙率，并对氧化膜的耐磨性进行了分析。结果表明，当第1阶段加载电压为300 V(180 s)时，所获膜层的表面孔隙率最低，仅为4.574%,膜层厚度为90μm,粗糙度为2.72μm。SEM结果表明，分段式加载电压所获膜层的致密度提高，表面裂纹和孔洞减少。分段加载电压方式为300 V(180 s)+380 V(1 620 s)时的磨损量最少，经过200 r的磨损后，质量损失仅为17.2 mg,较一次性加载方式减少了4.6 mg。

• 单位
  内蒙古工业大学