喷涂距离对APCVD制备的TiN薄膜性能的影响(英文)

作者：张天播; 赵高凌; 郑鹏飞; 徐刚; 汪建勋; 翁文剑; 韩高荣

来源：硅酸盐学报, 2007, (05): 606-610.

DOI：10.14062/j.issn.0454-5648.2007.05.015

• 氮化钛
• 常压化学气相沉积
• 喷涂距离 titanium nitride
• atmospheric pressure chemical vapor deposition
• spraying distance

以TiCl4和NH3为原料,用常压化学气相沉积法在玻璃基板表面沉积得到了TiN薄膜。采用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、电阻仪、紫外-可见光谱仪等研究了喷涂距离(输入TiCl4管道末端到基板之间的距离)对沉积的TiN薄膜的结晶性能和表面形貌,以及薄膜的电学性能和光学性能的影响。结果表明:当喷涂距离为5cm和10cm时,玻璃基板表面形成电阻较高、反射率较低的较疏松薄膜。当喷涂距离增加到13cm和15cm时,可以得到结晶良好、低电阻、高反射、致密的TiN薄膜。当喷涂距离进一步增加到20cm以上,得到的薄膜的电阻率随之升高而反射率下降。对喷涂距离对薄膜性能的影响机理进行了分析,认为喷涂距离的变化会...

• 单位
  硅材料国家重点实验室