La掺杂BiFeO3薄膜铁电及光学性能研究

作者：杨松; 郭凯鑫; 张敏; 邓朝勇; 王旭^*

来源：人工晶体学报, 2019, 48(08): 1445-1456.

DOI：10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2019.08.011

• 漏电流
• 容限因子
• 铁电性
• 光学带隙

利用溶胶-凝胶法分别在Pt/TiO2/SiO2/Si和ITO/玻璃衬底上制备纯相的铁酸铋(Bi Fe O3)和La掺杂的铁酸铋(Bi1-xLaxFe O3,x=0. 05,0. 1)薄膜。XRD测试表明BLFO薄膜为纯钙钛矿相,都呈(111)方向的菱形结构,La掺杂可以提高BFO薄膜的结构稳定性。镧掺杂铁酸铋具有更大的剩余极化值和较小的漏电流。此外,随着La成分的增加,薄膜的基本吸收边呈现红移,并通过Tauc公式计算拟合观察到BLFO的光学带隙逐渐减小。结果发现随着La掺杂量(0,5mol%,10mol%)逐渐增大,薄膜的剩余极化值越大,其禁带宽度(Eg)越小。

• 单位
  贵州大学