组氨酸/石墨烯修饰玻碳电极循环伏安法测定痕量铜(Ⅱ)

作者：王斌; 黄骏; 王洪海

来源：理化检验. B, 化学分册, 2015, 51(09): 912-916.

• 循环伏安法
• 石墨烯
• 组氨酸
• 铜(Ⅱ)

依次用滴涂法和电化学方法将石墨烯和组氨酸修饰在玻碳电极表面,制备了组氨酸/石墨烯修饰的玻碳电极,将该电极用于循环伏安法测定铜(Ⅱ)。由于石墨烯良好的导电性能以及组氨酸的配位吸附效应,铜(Ⅱ)在该修饰电极上的氧化峰电流相对于裸玻碳电极上的显著增大。在最佳条件下,铜(Ⅱ)的浓度在2.30×10-83.06×10-5 mol·L-1范围内与其氧化峰电流呈线性关系,测定下限(10S/N)为1.50×10-9 mol·L-1。此方法应用于实际样品中痕量铜(Ⅱ)的测定,加标回收率在94.0%102%之间,测定值的相对标准偏差(n=10)为2.0%,本法测定值与原子吸收光谱法测定值相符。

• 单位
  宿迁学院; 扬州环境资源职业技术学院