基于ADMM的低副瓣阵列区域聚焦照射

作者：杨仲平; 杨书宁; 周青松; 张剑云^*

来源：电子学报, 2021, 49(07): 1370-1378.

• 区域聚焦照射
• 精确电子战
• 超稀疏阵列
• 副瓣区域
• 栅瓣区域
• 交替方向乘子法

区域聚焦照射(regional focusing irradiation)能将信号能量准确投送至指定区域,但阵列的超稀疏性使得副瓣区域能量较高,在实施精确电子战时极大增加了干扰系统遭受打击的风险,因此副瓣区域能量抑制问题必须加以解决.本文提出一种基于L∞范数评估栅瓣区域能量的方法,将其作为正则项引入区域聚焦照射模型以抑制副瓣区域最大能量,并建立了多目标优化模型.采用交替方向乘子(alternating direction method of multipliers)框架将原问题分解为两个子问题:对于恒模约束下二次规划子问题I,采用贪婪算法给出其闭式解;对于无约束L2-L∞范数的子问题II,将L∞范数做近似光滑化处理,并通过梯度下降法求解.交替求解两个子问题至收敛,以求解发射信号.仿真实验表明,本文模型在副瓣区域能量抑制上较基于L1范数的区域聚焦照射模型具有更优性能,且本文算法实用性更强.

• 单位
  中国人民解放军国防科学技术大学