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摘要
本发明公开了一种MOCVD设备的喷淋头,包括将Zn源直接送进反应腔的Zn源管道,观察器以及辅助气体入口,所述喷淋头内腔顶部设有将所述辅助气体入口送入的气体进行折流过滤的折流机构,折流机构下设有若干漏斗形的送气管,各条送气管之间还包括冷却水管道。本发明的喷淋头,解决现有技术的喷淋头,反应物过早地受热反应,造成滤网阻塞的问题,并从结构上改进送气管道系统,让气体输送到基片表面前气流均匀无湍流,减少寄生反应和高温寄生沉积,提高薄膜生产效果。
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本发明公开了一种MOCVD设备的喷淋头,包括将Zn源直接送进反应腔的Zn源管道,观察器以及辅助气体入口,所述喷淋头内腔顶部设有将所述辅助气体入口送入的气体进行折流过滤的折流机构,折流机构下设有若干漏斗形的送气管,各条送气管之间还包括冷却水管道。本发明的喷淋头,解决现有技术的喷淋头,反应物过早地受热反应,造成滤网阻塞的问题,并从结构上改进送气管道系统,让气体输送到基片表面前气流均匀无湍流,减少寄生反应和高温寄生沉积,提高薄膜生产效果。
