涂胶曝光显影一体化设备研究

作者：吕磊; 郑如意; 周文静

来源：电子工业专用设备, 2020, 49(06): 31-36.

• 光刻
• 涂胶
• 曝光
• 显影

以光刻工艺为核心,介绍了匀胶曝光显影一体化设备,对设备的特点进行了分析,同时对设备的运行流程、结构布局、工作效率和电控及软件的实现进行了介绍,并提出了该设备今后优化的方向。

• 单位
  中国电子科技集团公司第四十五研究所