摘要

电子背散射技术(EBSD)因可以获得晶体结构和取向信息而成为SEM的重要补充,在金属、半导体、矿物和陶瓷材料等领域的作用日益重要。更高的分辨率、更高的速度和效率是对EBSD技术提出的发展需求。本文在简述EBSD技术基础原理的基础上,重点评述了其在提高空间分辨率(透射菊池衍射(TKD))及提升处理速度和表征效率(CMOS和直接电子探测相机)方面的研究进展,并对EBSD技术的未来发展方向进行了展望。

  • 单位
    材料科学与工程学院; 哈尔滨工业大学(深圳)