新型双沟槽抗弯曲大模场扇形瓣状光纤研究

作者：王冠利; 宁提纲; 郑晶晶; 李晶; 许建; 魏淮; 裴丽^*; 马绍朔

来源：光学学报, 2019, 39(10): 140-148.

• 光纤光学
• 光纤设计与制造
• 大模场面积
• 抗弯曲
• 单模运转

提出了一种新型的抗弯曲大模场面积光纤方案——双沟槽辅助型扇形瓣状光纤。与传统的扇形瓣状光纤及单沟槽辅助扇形瓣状光纤相比,该结构具有更大的模场面积和更好的高阶模抑制能力。研究结果表明:在弯曲半径为20 cm,波长为1.55μm时,光纤的有效模场面积可达1096μm2,高阶模与基模损耗比大于100;此外,所提出的光纤对弯曲方向不敏感,弯曲方向在[-180°,180°]范围内变化时,光纤性能保持稳定。

• 单位
  北京交通大学; 电子信息工程学院