纳米压印光刻中模版与基片的平行调整方法

作者：张亚军; 段玉刚; 卢秉恒; 王权岱

来源：微细加工技术, 2005, (02): 34-38.

• 压印光刻
• 柔性铰链
• 工作台 <Keyword>imprint lithography
• flexure hinge
• stage

概述了纳米压印光刻的原理,以及纳米压印光刻工艺中模版与基片的平行度对压印质量的影响,分析了国内外几种纳米压印光刻工作台的结构与特点,并对其优缺点进行了评价。

• 单位
  西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室