摘要

本发明公开了一种空间用GaAs太阳电池叠层减反射膜及其制备方法与应用。所述减反射膜由TiO2层、Si3N4层及SiO2层多次交替堆叠而成,TiO2层、Si3N4层及SiO2层的光学厚度分别为各层对应材料参考波长的0.1~0.25倍;其中TiO2层的折射率为2.5~2.7,Si3N4层的折射率为1.8~2.0,SiO2层的折射率为1.4~1.6。所述减反射膜在宽光谱范围内与太阳光谱有较好的匹配性(300~1400nm范围内平均反射率低至6.71%),同时对GaAs太阳电池表面有较好的钝化作用,减反射效果较常规的减反射膜体系有所提升。