钛合金平面磁粒研磨轨迹的均匀性实验研究

作者：陈宇辉; 韩冰^*; 齐琦; 赵杨; 崔维启

来源：电镀与精饰, 2021, 43(01): 1-6.

DOI：10.3969/j.issn.1001-3849.2021.01.001

• 磁力研磨
• 运动轨迹
• 表面粗糙度
• 平面均匀性

为了获得更好的研磨加工质量和高效、高均匀度的加工效果,采用磁力研磨法,利用ADAMS模拟单颗磨粒运动轨迹,并运用数值计算对运动轨迹的均匀性作出评判。通过搭建实验平台,在不同条件下,对钛合金平面进行研磨抛光,获取其表面粗糙度的变化与加工时间的关系,并在加工区域取3点测量其表面粗糙度,探讨研磨轨迹的均匀性对加工平面粗糙度的影响。

• 单位
  自动化学院; 辽宁科技大学