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摘要
本发明公开了一种MOCVD设备的进气装置及MOCVD设备,进气装置内部设有相互隔离的第一腔体和第二腔体；第一腔体沿进气装置的直径方向设置,在第一腔体上竖向设有多个第一气体进气管,第二腔体位于第一腔体两侧,第二腔体内横向设有第二气体进气管道,第二气体进气管道贯穿进气装置侧壁,第二气体进气管道的管壁上设有多个喷孔；第二腔体上竖向设有多个第三气体进气管,第二气体与第三气体在第二腔体内混合后向下移动,进气装置的底面为第一过滤网,第一气体、第二气体和第三气体穿过第一过滤网向下流动。本发明进气装置的气体管道架构简洁,进气易控制,降低了设备制造成本及难度,提高了气体均匀性以及薄膜生长的均匀性和稳定性。
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