登录
免费注册
首页
论文
论文详情
赞
收藏
引用
分享
科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
半导体工艺中硅衬底凹坑缺陷的检测
作者:陈昊
来源:
南京工业职业技术学院学报
, 2010, (02): 39-41.
DOI:10.15903/j.cnki.jniit.2010.02.009
微缺陷
失效
择优腐蚀液
凹坑
退火 microdefect
failure
preferred corrosive liquid
bullet-like defect
anneal
摘要
通过两个角度分析加深晶体缺陷的概念理解,结合一次工艺生产中造成芯片失效的晶体缺陷检测,分析造成此次芯片失效的晶体缺陷的种类和位置,并且给出了解决方案。
单位
江苏信息职业技术学院
全文
全文
访问全文
相似论文
引用论文
参考文献