多种方法改善浸润式光刻机曝光台边缘缺陷检测问题

作者：常欢; 王朝辉; 陆捷

来源：中国集成电路, 2021, 30(10): 63-84.

• 浸润式光刻机
• 自动聚焦
• 良率
• 曝光台清扫
• 国际半导体技术蓝图

为有效提升浸润式光刻机的边缘缺陷监控效率,延长关键部件的使用寿命,本文从软件监控方面入手,建立了一套浸润式光刻机边缘缺陷检测监控机制,最终通过有效的管理改善,极大地保证了机台稳定性,提升了产品良率。