纳米结构TiN薄膜的制备与性能研究

作者：闫鹏勋; 吴志国; 徐建伟; 张玉娟; 李鑫; 张伟伟

来源：人工晶体学报, 2004, (06): 974-977.

DOI：10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2004.06.021

• 纳米结构氮化钛
• 薄膜
• 等离子体 nano-structure TiN
• thin film
• plasma

利用自行研制的磁过滤等离子体设备 ,在室温条件下的不锈钢基底上成功地制备了性能良好的纳米结构TiN薄膜。运用原子力显微镜和X射线衍射仪对其结构和形貌进行了表征。利用纳米硬度仪测量了TiN薄膜的硬度和弹性模量。结果显示 :沉积的TiN薄膜表面非常平整光滑 ,致密而无缺陷 ;硬度远高于粗晶TiN的硬度 ;TiN晶粒尺寸在 3 0～ 5 0nm ;沉积过程中在基底上施加的负偏压会影响纳米结构TiN薄膜的结构和性能

• 单位
  中国科学院兰州化学物理研究所; 固体润滑国家重点实验室; 兰州大学