钼基体上真空等离子体喷涂钨涂层的研究

作者：邝子奇; 代明江; 熊国刚; 刘敏; 邓畅光; 周克崧

来源：真空科学与技术学报, 2005, (05): 68-71.

DOI：10.13922/j.cnki.cjovst.2005.05.015

• 真空等离子体喷涂
• 钨涂层
• 高温热处理
• 钼基体

采用真空等离子体喷涂(VPS)技术制备出厚度超过0.8 mm的金属钨涂层,并对涂层进行了高温热处理。结果显示:金属钨涂层主要呈层状结构,其密度可达到理论密度的98%以上;工艺参数对喷涂涂层性能有较大影响,特别是对涂层密度、结合强度有影响;高温热处理引起界面结构变化,形成钨钼混合层,且再结晶形成细小的晶粒;和CVD方法以及常压等离子体喷涂方法制备的钨涂层相比,低压等离子体喷涂具有明显的优势。

• 单位
  广州有色金属研究院; 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所