摘要
为提高RE-Ba-Cu-O涂层导体在强磁场下的超导载流能力,本文采用离子辐照的方式拟在RE-Ba-Cu-O涂层导体产生缺陷以引入磁通钉扎中心.实验利用320kV高电荷态离子综合研究平台对RE-Ba-Cu-O第二代高温超导带材进行H+离子辐照,进一步采用多普勒展宽慢正电子束分析及拉曼光谱技术研究了剂量在5.0×1014—1.0×1016ions/cm2范围内H+离子辐照后RE-Ba-Cu-O带材的微观结构的变化规律.研究结果表明,随H+离子辐照剂量增大,Y0.5Gd0.5Ba2Cu3O7–δ超导层中产生了包括空位或空位团簇型等类型缺陷,缺陷增多,缺陷类型复杂性增加;涂层中氧原子发生重排,Cu-O面间距增加,涂层正交相结构被破坏.此类离子辐照产生的缺陷为磁通钉扎中心的引入奠定基础.
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单位核工业西南物理研究院