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摘要
金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)系统是制备GaN等半导体薄膜材料、建筑材料、LED等光电子器件装饰材料主要设备。本文采用计算流体力学软件Fluent对MOCVD反应器内温度场及速度场进行模拟分析。对MOCVD反应器内的传热传质机理进行分析,从而为MOCVD反应器内设计提供理论依据。
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金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)系统是制备GaN等半导体薄膜材料、建筑材料、LED等光电子器件装饰材料主要设备。本文采用计算流体力学软件Fluent对MOCVD反应器内温度场及速度场进行模拟分析。对MOCVD反应器内的传热传质机理进行分析,从而为MOCVD反应器内设计提供理论依据。
