科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
摘要
采用射频磁控溅射法在石英衬底和硒化锌衬底上制备了碲化铋薄膜，分别研究了薄膜厚度、退火温度对薄膜微观结构和光电性能的影响。利用X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪和冷场发射扫描电子显微镜，分析了薄膜结构、成分和形貌。结果表明，退火有利于薄膜的结晶，且不改变晶体的择优取向。傅里叶变换红外光谱测试结果表明，在石英衬底和硒化锌衬底上沉积的薄膜，光学透过率随着薄膜厚度和退火温度的增加而减小，在硒化锌衬底上沉积的薄膜透过波段比石英长，且光学透过率更加稳定。霍尔效应测试结果表明，随着薄膜厚度和退火温度的增加，薄膜的电阻率逐渐减小，最小为1.448×10-3Ω·cm，迁移率为27.400 cm2·V-1·s-1，载流子浓度为1.573×1020 cm-3。在石英衬底上沉积的15 nm厚的Bi2Te3薄膜，在1～5μm波段的透过率达到80%，退火200℃后透过率达到60%，电阻率为5.663×10-3Ω·cm。在硒化锌衬底上沉积相同厚度的薄膜，在2.5～20μm波段的透过率达到65%,200℃退火后透过率达到60%，薄膜电阻率为9.919×10-3Ω·cm。制备的Bi2Te3薄膜具有优良的光电特性，是红外透明导电薄膜领域理想的候选材料之一，在红外光电子学芯片制备领域有较好的应用前景。
- 单位
