ArrayTFT基板Open类不良的研究

作者：余舒娴; 翁超; 崔泰城; 史化; 魏雪文; 范昌荣; 柴国庆^*

来源：电子世界, 2018, (17): 9-15.

DOI：10.19353/j.cnki.dzsj.2018.17.002

• 液晶显示面板
• DO不良
• 玻璃基板

为了降低Array TFT基板生产过程中的Data Open(DO)不良,提高成品率,本文研究并分析了玻璃基板刻蚀粗糙度、翘曲率、Particle数值三个因素对DO不良的影响。首先,使用不同状态的玻璃基板进行DO不良测试。然后,通过原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)、能量色散X射线光谱仪(EDX)、台阶仪(Step Profiler)对玻璃基板的表面状态和组成成分进行测试。最后,通过实验数据和表征分析结果对玻璃基板的DO不良进行分析。实验结果表明:(1)A玻璃基板刻蚀前后粗糙度比:刻蚀后/刻蚀前=3.44,B玻璃的为1.42。对于双氧水基铜刻蚀液,不同玻璃的刻蚀效果敏感于玻璃成分差异。而且,玻璃基板的粗糙度和DO不良率成正相关,刻蚀后表面粗糙度越小,DO发生率越低;(2)玻璃基板越平整即玻璃翘曲率越小,DO不良率越低;(3)玻璃基板上的Particle越低(80以下/Glass),玻璃表面越干净,DO发生率越低。对这三个因素与DO不良关系的研究将为生产过程中的DO不良改善提供依据。