摘要

<正>据phys.org网11月15日消息,韩国蔚山科学技术院(Ulsan National Institute of Science and Technology, UNIST)的研究人员开发出一种用于辐射防护的MXene-碳化硼复合中子屏蔽膜,该屏蔽膜厚度仅为数十微米,可有效阻挡辐射中的中子。研究人员直接合成了二维纳米材料MXene和母体MAX相,将碳化硼通过超声处理和离心分离分成能够吸收中子的小颗粒并均匀分散在溶液中,