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摘要
光气作为重要的化工原料 ,在生产和使用中由于防护不当经常发生急性中毒。光气的主要毒性作用是引起肺水肿 ,出现气道功能和结构的改变。迄今对光气中毒肺水肿的中毒机制见解不一 ,临床诊治亦无特效措施[1,2 ] 。本研究从对维持正常肺功能发挥重要作用的肺泡Ⅱ型上皮细胞 (AT Ⅱ细胞 )入手 ,利用基因芯片技术 ,从分子水平探讨光气中毒损伤的基因改变 ,为进一步研究光气中毒机制提供新线索 ,同时为临床诊治探讨新思路。1 材料与方法1 1 动物 雄性 2级SD大鼠 ,2只 ,体重分别为14 5 2和 15 6 3g ,由本校实验动物中心提供。随机分为 2组 ,设为对照组与染毒组 ,染毒组给予
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