摘要

<正>等离子体增强磁控溅射技术是在磁控溅射时外加钨丝放电来增强等离子体的密度,显著提升涂层的沉积速率和均匀性,并匹配可调控的等离子体能量,从而实现超厚、超硬涂层的制备。采用该技术制备的TiSiCN、TiAlVSiCN等涂层具有非晶包覆纳米晶(5~20 nm)的结构,涂层厚度可控制在≤30μm范围内,纳米硬度>30 GPa,具有优良的抗冲蚀性能和结合强度。

  • 单位
    北京三聚环保新材料股份有限公司