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摘要
传统弧后鞘层生长连续过渡模型(continuous transition model, CTM)可以对弧后粒子的运动迁移过程进行研究,且只关注弧后过程,没有考虑燃弧过程对弧后过程的影响。该文把电流过零前的燃弧过程对弧后粒子的迁移运动和扩散衰减的影响体现到传统CTM模型中,建立了改进CTM模型,此改进模型是关于电弧电流频率的函数。通过改进CTM模型,研究发现在50～50 000 Hz频率范围内,频率随弧后鞘层的生长快慢不呈线性关系,而是随着频率的升高鞘层生长先变缓后又变快。随着频率的增加,快速离子和慢速离子在鞘层生长过程中的主导作用会发生转化,当快速离子占主导作用时,鞘层生长较快,相反慢速离子占主导,鞘层生长较慢。研究结果可以指导机械式真空直流断路器中频反向电流频率的选择。
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