微波化学气相沉积制备AlOx薄膜及钝化晶硅性能的研究

作者：**; 巴德纯; 张振厚

来源：真空与低温, 2015, 21(06): 315-319.

DOI：10.3969/j.issn.1006-7086.2015.06.002

• 线性微波源
• 氧化铝薄膜
• 少子寿命

通过线性微波化学气相沉积(LMW-PECVD)技术在P型单晶样品上高生长速度下制备了高质量的Al Ox薄膜,采用场发射电子扫描显微镜、光学椭圆偏振仪器、有效少子寿命测量仪对实验样品进行了表征和分析。结果表明,Al Ox薄膜的厚度和折射率都对晶硅的钝化效果有影响,薄膜厚度在2030 nm之间、折射率在1.61.65之间出现了理想的钝化效果;热处理对Al Ox薄膜钝化效果的影响较为复杂,理想的热处理温度在350400℃之间。

• 单位
  东北大学; 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司; 自动化学院