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摘要
为探索羟基磷灰石(HA)在含碳基体上电化学沉积,采用了高定向裂解石墨(HOPG)片这一具有原子级平整表面的导电材料作为阴极材料,探索了电沉积时间、溶液pH值及溶液浓度对沉积层成分和形貌的影响,利用TEM、SEM、AFM、EDS及XRD等进行了表征分析,并初步探讨了羟基磷灰石电沉积机理。结果表明电解液初始pH值为5和钙离子浓度低于0.007mol/L时有利于促进HA的生长,并且可以形成单层片状结构,得到比较规整完善的多孔状单层HA涂层。而延长电沉积和陈化时间则有助于缺钙型HA垂直于基底表面生长,并促进钙磷比增加,形成缺钙性HA。研究将为电沉积羟基磷灰石的应用提供必要的理论和实验支持。
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