蓝宝石化学机械抛光液的研究进展

作者：屈**; 牛新环^*; 侯子阳; 张银婵; 朱烨博; 闫晗; 罗付

来源：电镀与涂饰, 2022, 41(03): 211-216.

DOI：10.19289/j.1004-227x.2022.03.011

• 蓝宝石
• 化学机械抛光
• 抛光液
• 磨料
• 添加剂
• 综述

简介了蓝宝石化学机械抛光(CMP)的基本原理，从磨料、pH调节剂、表面活性剂、配位剂和其他添加剂方面概述了近年来蓝宝石CMP体系的研究进展，展望了蓝宝石CMP体系未来的研究方向。

• 单位
  河北工业大学; 电子信息工程学院