大束流离子注入机是半导体行业中一种十分重要的设备,在生产过程中,影响注入机产品良率和产能的关键因素是颗粒的多少。大束流离子注入机采用靶盘式结构,腔体空间大,腔体内真空度相较于中束流离子注入机低,束流路径大,因此产生颗粒的几率更大。本文先分析了大束流离子注入机颗粒产生的原因,然后提出了气体传导率限制缝和锯齿石墨两种减少颗粒的结构设计,并进行了实验验证,最后给出了颗粒偏高后查找颗粒源的几种方法。
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