氧化镍薄膜的制备及其磁性研究

作者：宁晓藤; 姜浩; 卢建敏; 于素圆; 侯盼哲; 孙会元^*

来源：河北师范大学学报(自然科学版), 2021, 45(03): 265-269.

DOI：10.13763/j.cnki.jhebnu.nse.202102011

• NiO薄膜
• 磁控溅射
• 氧空位
• 室温铁磁性

采用电化学的方法制备了阳极氧化铝(PAA)薄膜,利用直流反应磁控溅射方法,以有序多孔PAA作为衬底,成功制备了有序多孔氧化镍(NiO)薄膜,并对其进行了结构和物性表征.磁性测试发现,有序多孔NiO薄膜具有明显的室温铁磁性,而且垂直于膜面方向的饱和磁化强度要远大于平行于膜面的方向.将薄膜在氩气环境中热退火处理,对有序多孔NiO薄膜退火处理前后的磁滞回线(M-H)测试分析发现,氩气环境中热退火处理后样品的室温铁磁性明显增大.在相同条件下,制备了致密NiO薄膜,通过与多孔NiO薄膜进行磁性比较,并结合光致发光(PL)光谱的分析结果发现,热退火处理后样品的室温铁磁性增大与材料的多孔结构以及氧空位有关.

• 单位
  物理学院; 河北师范大学