In2O3纳米材料气敏传感器制备方法综述

作者:刘子豪; 彭立安; 冶小芳; 贾翠萍
来源:山东化工, 2020, 49(18): 69-74.
DOI:10.19319/j.cnki.issn.1008-021x.2020.18.026

摘要

氧化铟具有较宽的禁带宽度、较小的电阻率和较高的催化活性,是一种重要的n型半导体。氧化铟材料对氧化性气体和还原性气体都表现出良好的气敏性能,被广泛应用于半导体气体传感器。半导体气体传感器的性能,如灵敏度、选择性、稳定性、响应/恢复时间等,与气敏材料自身的理化性能、形貌、结构具有直接的关系。本文对近年来纳米结构的In2O3研究进展进行了综述,以In2O3纳米材料的制备方法以及所制备出的不同形貌结构进行分类介绍,对In2O3气敏传感器应用进行展望。