化学气相沉积温度对钽涂层的显微组织及力学性能的影响

作者：蔡宏中; 易健宏; 李旭铭; 魏燕; 张诩翔; 张贵学; 胡昌义^*

来源：材料保护, 2020, 53(06): 94-104.

DOI：10.16577/j.cnki.42-1215/tb.2020.06.017

• 化学气相沉积
• 钽涂层
• 沉积温度
• 显微组织
• 力学性能

为了探究沉积温度对化学气相沉积金属钽涂层组织及性能的影响,利用TaCl5-H2-HCl反应体系,以冷壁式化学气相沉积法(CVD)用不同沉积温度在钼基体表面沉积了钽涂层。研究了不同沉积温度下的化学气相沉积钽涂层的显微组织、力学性能及断口形貌等。结果表明:在1 000～1 300℃范围内,涂层晶粒尺寸随沉积温度的升高逐渐增大,涂层的抗拉强度和延伸率随温度的升高均逐渐降低,涂层的断裂方式由韧性断裂转变为脆性断裂。

• 单位
  昆明贵金属研究所; 昆明理工大学