基于范德华薄膜上的氧化镓外延层转印方法

作者：宁静; 陈丹妮; 王东; 张进成; 马佩军; 郝跃

来源：2021-10-26, 中国, CN202111244194.6.

本发明公开了一种基于范德华薄膜上的氧化镓外延层转印方法,主要解决现有剥离技术复杂,成本昂贵及剥离氧化镓外延层质量不高的问题。其实现方案是：首先,在抛光好的铜箔上采用化学气相沉积法制作多晶连续石墨烯薄膜；然后,将石墨烯薄膜转移到蓝宝石衬底上；接着,使用脉冲激光沉积法在石墨烯薄膜/蓝宝石衬底上生长氧化镓外延层；最后,将生长的氧化镓外延层使用热释胶带剥离转移至目标衬底。本发明通过石墨烯缓解了衬底和外延层之间由于晶格失配产生的应力,且通过外延层和石墨烯之间存在的较弱范德华力,使外延层易于被剥离并转移至目标衬底,可用于实现原衬底的重复利用或制作氧化镓自支撑衬底和柔性器件。

• 单位
  西安电子科技大学