缺陷型及非缺陷型精神分裂症脑白质异常——基于体素的脑形态学研究

作者：王湘; 王晓晟; 颜莉蓉; 谭长连; 李亚军; 司徒卫军; 姚树桥

来源：中国临床心理学杂志, 2009, (04): 387-389+393.

• 精神分裂症
• 缺陷型
• 磁共振成像
• 基于体素的形态学分析
• 白质

目的:应用基于体素的脑形态测量学方法,比较缺陷型与非缺陷型精神分裂症患者大脑白质结构损害的差异。方法:采用GE1.5TMRI成像系统,对缺陷型精神分裂症(n=10)、非缺陷型精神分裂症(n=11)及正常对照(n=15)进行全脑扫描,获取脑解剖结构MRT1图像。随后在SPM2平台上使用VBM工具箱逐例进行全自动数据分析,再进行成组t检验。结果:与正常对照相比,缺陷型患者的白质密度降低区域主要是左侧额叶回下,而非缺陷型患者为左侧额叶回下、右颞中回、右枕叶舌回以及胼胝体。两型患者的比较显示,缺陷型患者双侧额上回以及右侧顶叶的白质密度低于非缺陷型组,而左侧额内侧回的白质密度高于非缺陷型组。结论:这是第一项运用VBM法考察缺陷型与非缺陷型患者之间脑白质损害不同的形态学研究。研究结果为缺陷型患者额-顶环路受损的假说提供了新的证据。

• 单位
  中国人民解放军广州军区武汉总医院; 中南大学湘雅医学院; 中南大学湘雅二医院