电子束蒸发金膜速率分析

作者：邹鹏辉; 陈舒恬; 高建峰; 耿涛

来源：固体电子学研究与进展, 2013, (05): 462-465.

• 电子束蒸发
• 蒸发速率
• 金膜

在不同的蒸发速率下沉积300nm的Au薄膜,研究蒸发速率对薄膜表面形貌和性能的影响。随着蒸发速率的提高,薄膜的结构变得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度减小。金薄膜方阻随着蒸发速率提高无明显变化,而方阻均匀性变差,但在可接受的范围内。但蒸发速率过高会引起金属大颗粒增多。因此,选用适合的蒸发速率对Au膜质量有很大影响。文中的初步结果可对改善电容特性和提升器件性能提供参考。