活性屏等离子体源渗氮工艺特性及传质机制

作者：李广宇^*; 雷明凯

来源：中国表面工程, 2018, 31(05): 92-98.

• 活性屏等离子体源渗氮
• 奥氏体不锈钢
• 工艺特性
• 线性回归
• 传质机制

为揭示活性屏等离子体源渗氮工艺特性(试样偏压电位和试样距屏高度)对AISI 316奥氏体不锈钢渗氮效果的影响规律,利用最小二乘法线性回归拟合了不同工艺条件下渗氮层厚度数据,绘制了活性屏等离子体源渗氮AISI316奥氏体不锈钢的工艺特性图,以此确定其最佳工艺参数。并通过对金属网屏上溅射颗粒的化学成分和相结构分析,探讨了活性屏等离子体源渗氮的传质机制。结果表明:渗氮层厚度随试样距屏高度增大而降低,当适当降低渗氮气压或试样施加一定负偏压时,均有助于提高渗氮层的厚度,并且证实了"溅射-再沉积"模型是活性屏等离子体源渗氮重要的传质机制。

• 单位
  大连理工大学; 营口理工学院