摘要

本文主要对硅外延片表面微缺陷分析方法进行研究,通过配置一定比例的重铬酸钾及氢氟酸腐蚀液,严格按照试验方法的操作步骤对硅外延片进行处理,采用偏光金相显微镜进行分析,可以清晰的看到硅外延片表面的微缺陷。