氧化铝粉体在硅溶胶中的分散机理研究

作者：孔德玉; 杨辉; 王家邦; 韦苏; 程本军

来源：稀有金属材料与工程, 2004, 33(z1): 83-87.

DOI：10.3321/j.issn:1002-185X.2004.z1.024

• 氧化铝
• 硅溶胶
• 纳米粒子
• 分散机理
• 空缺稳定

通过沉降实验和流变学测试研究了氧化铝粉体在硅溶胶中的分散行为,结果表明,与在去离子水中分散时相比,随硅溶胶浓度增大,浆料沉降体积和表观粘度呈先急剧减小,再缓慢增加趋势.对沉降后上部清液中二氧化硅浓度的测定表明,氧化铝颗粒沉降过程中,硅溶胶纳米粒子向上部清液中富集,最终上部清液中SiO2浓度与初始浓度相比反而有所增大.TEM分析和FTIR分析表明,沉积物中几乎不存在硅溶胶纳米粒子;由此得到硅溶胶纳米粒子在氧化铝颗粒表面的分布模型,发现浆料最稳定时的硅溶胶浓度约为单层饱和分布量理论计算结果的2.5倍左右,而其分散与稳定则是由于未吸附硅溶胶纳米粒子对氧化铝颗粒产生的空缺稳定作用所引起的.

• 单位
  浙江大学; 浙江工业大学