Ni0.25Zn0.15Fe2.6O4种子层对NiZn铁氧体双层膜性能的影响

作者：闫妍; 孙科^*; 杨长龙; 王炜; 郭荣迪; 蒋晓娜; 余忠; 兰中文

来源：磁性材料及器件, 2020, 51(03): 1-5.

DOI：10.19594/j.cnki.09.19701.2020.03.001

• NiZn薄膜
• 种子层
• 矫顽力
• 磁导率

采用旋转喷涂法在Si(100)基片上制备Ni0.25Zn0.15Fe2.6O4(100 nm)铁氧体薄膜作为种子层,然后在种子层上采用射频磁控溅射法沉积Ni0.25Cu0.09Zn0.66Fe1.998O4(600 nm)铁氧体薄膜。研究了种子层对NiZn铁氧体双层膜微观形貌、饱和磁化强度、矫顽力、磁导率及截止频率的影响。结果表明,Ni0.25Zn0.15Fe2.6O4种子层的引入促进了NiZn铁氧体双层膜尖晶石相的晶化和晶粒生长。NiZn铁氧体双层膜的饱和磁化强度Ms为420 kA/m,矫顽力Hc为5.9kA/m,截止频率fr为1.37 GHz,磁导率μ’(300 MHz)高达202。

• 单位
  电子科技大学; 国网辽宁省电力有限公司沈阳供电公司