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摘要
介绍了一种新型镀铜银纳米线导电薄膜制备技术:以磁控溅射法在涂布了OC(保护胶)的银纳米线(AgNWs)薄膜表面覆盖纳米铜层来替代银浆,再通过黄光制程中的蚀刻工艺将铜层进行图案化蚀刻。研究了蚀刻液中过硫酸钠和磷酸用量对铜层蚀刻效果的影响,得到较佳的铜蚀刻液为:磷酸117.7 g/L,过硫酸钠35.3 g/L。采用该蚀刻液能够将镀铜银纳米线薄膜上的Cu层完全蚀刻掉,并且不损坏OC层和AgNWs层,蚀刻时间易控,效果好。
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单位陕西煤业化工技术研究院有限责任公司
