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摘要
在原子尺度制造方法中,原子层沉积(ALD)是一种依靠表面自限制吸附反应沉积超薄膜的技术,具有优异的制造精度、保型性和沉积均匀一致性等独特优势.本文介绍了ALD技术在纳米颗粒表面改性的最新进展及应用.通过ALD工艺调控可以精准制备致密包覆层,多孔包覆层以及表面定向改性构型.纳米级致密包覆层可以隔绝外界环境,提升颗粒稳定性,同时保留颗粒本体性能.多孔包覆层则具有纳米通道,在保留颗粒与外界接触的同时,实现了对进入反应物尺寸的筛选,以及提供了物理限域作用增强稳定性.表面定向改性则能够选择性钝化或者暴露纳米颗粒特定功能表面. ALD的颗粒表面改性技术在电极材料、含能与磁性颗粒的稳定化,催化剂活性位点定向调控等方面具有前瞻性应用.最后,文章展望了ALD进行微纳颗粒表面改性未来面临的挑战和发展方向.
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