面向高反光区域的自适应结构光

作者：詹瑜; 胡丹^*; 刘凯^*

来源：光学学报, 2022, 42(16): 115-123.

DOI：10.3788/AOS202242.1612001

• 测量
• 光强饱和
• 相移结构光
• 最优投影光强
• 自适应条纹
• 相位融合

在结构光三维成像中，待测场景的高反光区域会在相机成像阵列上出现饱和，这会影响相移法结构光的相位准确度。针对这一问题，提出一种自适应相移结构光测量方法。首先，投射若干幅均匀灰度图像，并检测高反光区域和饱和程度，逐像素点确定最优投影光强。然后，根据目标特性降低投影强度实现坐标映射，生成一组高动态范围的自适应调制条纹。最后，对于饱和程度较大的区域，结合坐标映射的相位进行相位融合。实验结果表明，相比于传统方法，所提方法能够更加准确地对投影光强进行调整，相位的最大均方根误差（RMSE）和饱和区域RMSE分别减小了99.43%和92.48%，有效地提高了高反光区域的形貌测量精度。

• 单位
  四川大学